探勘場址規劃之井體正投影至地表之邊界，與下列各款所定邊界之最短直線距離在五百公尺以內者，申請人並應提出對以下案場可能造成之影響說明、預計採取之減緩措施及相關探勘規劃供主管機關審查：
一、已供地熱能發電設備使用之井體正投影至地表之邊界。
二、依本條例核准地熱能探勘許可或開發許可之井體正投影至地表之邊界。
三、依溫泉法及相關法令核准之開發許可或經營許可之井體正投影至地表之邊界。
探勘申請人如與前項第一款至第三款規定之權利人為同一人，無須檢附前項資料。