本章適用對象為公私場所具有石化製程之設施。
但下列石化製程之設施不適用本章規定：
一、產製食用酒精之製程。
二、以石化中間產品為原料進行物理加工之製程。
三、排氣中揮發性有機物排放量小於三百五十mg／min（揮發性有機物排放量以甲烷表示）之批次操作製程。
四、排氣流量小於六十Nm³／hr之連續操作製程。
五、其他經中央主管機關公告之製程。