半導體製造業空氣污染管制及排放標準 第8條
第8條
本標準自發布日施行。
其他條文
全文- 第1條本標準依空氣污染防制法第二十條第二項及第二十三條第二項規定訂定之。
- 第2條（因條文排版無法完整呈現內容，請詳閱完整條文檔案）本標準用詞及符號，定義如下：一、半導體製造業：指從事積體電路晶圓製造、…
- 第3條（因條文排版無法完整呈現內容，請詳閱完整條文檔案）本標準適用於半導體製造業。但半導體製造業原（物）料年用量小於下表所列者…
- 第4條（因條文排版無法完整呈現內容，請詳閱完整條文檔案）半導體製造業產生之空氣污染物應經密閉集氣系統收集，並應符合下表規定後始…
- 第5條依前條規定收集之廢氣，於污染防制設備之廢氣導入處或排放管道排放口應設置流量計及濃度監測器，其設置規定如下：一、適用本標準…
- 第6條揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸等之紀錄、保存與申報規定如下：一、空氣污染物輸入量（以溶劑或其他型…
- 第7條既存製程未能符合第四條排放標準或第五條設置規定者，公私場所應於本標準修正施行後六個月內，檢具空氣污染改善計畫，向直轄市、…
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