Optoelectronic Material and Element Manufacturing Industry Air Pollution Control and Emission Standards Article 4
┌──────┬──────────┬─────────────────┐│Air │Applicable Targets │Emissions Standards ││pollutant │ │ │├──────┼──────────┼─────────────────┤│ │New processes │Treatment efficiency shall achieve││ │ │85% or discharge pipe emissions ││ │ │of less than 0.4 kg/hour (taking ││ │ │methane as a basis for calculation││ │ │). ││ ├──────────┼─────────────────┤│ │Existing processes │Treatment efficiency shall ││ │ │achieve75% or discharge pipe ││ │ │emissions of less than 0.4 ││ │ │kg/hour (taking methane as a basis││ │ │for calculation). │├──────┼──────────┼─────────────────┤│Hydrofluoric│Pollution control │Treatment efficiency shall achieve││acid │equipment front end │85% or discharge pipe emissions ││ │emission concentrati│of less than 0.1 kg/hour. │ │ │on of 3 ppm or │ ││ │higher. │ ││ ├──────────┼─────────────────┤│ │Pollution control │Treatment efficiency shall achieve││ │equipment front end │75% or discharge pipe emissions ││ │emission │of less than 0.1 kg/hour. ││ │concentration of 3 │ ││ │ppm or less. │ │├──────┼──────────┼─────────────────┤│hydrochloric│Pollution control │Treatment efficiency shall achieve││acid │equipment front end │85% or discharge pipe emissions ││ │emission │of less than 0.2 kg/hour. ││ │concentration of 3 │ ││ │ppm or higher. │ ││ ├──────────┼─────────────────┤│ │Pollution control │Treatment efficiency shall achieve││ │equipment front end │75% or discharge pipe emissions ││ │emission │of less than 0.2 kg/hour. ││ │concentration of 3 │ ││ │ppm or less. │ │└──────┴──────────┴─────────────────┘
中文原文 光電材料及元件製造業空氣污染管制及排放標準第4條
光電業排放之空氣污染物應經密閉排氣系統收集，並應符合下表規定後始得排放：┌───┬─────────┬────────────────┐│空氣│適用對象│排放標準││污染物│││├───┼─────────┼────────────────┤│揮發性│新設製程│處理效率應達百分之八十五或管道排││有機物││放量Ο．四公斤／小時以下（以甲烷││││為計算基準）。
││├─────────┼────────────────┤││既存製程│處理效率應達百分之七十五或管道排││││放量Ο．四公斤／小時以下（以甲烷││││為計算基準）。
│├───┼─────────┼────────────────┤│氫氟酸│污染防制設備前端廢│處理效率應達百分之八十五或管道排│││氣濃度三ppm以上者│放量Ο．一公斤／小時以下││├─────────┼────────────────┤││污染防制設備前端廢│處理效率應達百分之七十五或管道排│││氣濃度小於三ppm者│放量Ο．一公斤／小時以下│├───┼─────────┼────────────────┤│鹽酸│污染防制設備前端廢│處理效率應達百分之八十五或管道排│││氣濃度三ppm以上者│放量Ο．二公斤／小時以下││├─────────┼────────────────┤││污染防制設備前端廢│處理效率應達百分之七十五或管道排│││氣濃度小於三ppm者│放量Ο．二公斤／小時以下│└───┴─────────┴────────────────┘光電業符合固定污染源設置與操作許可證管理辦法第三條規定之變更條件者，其新增之污染防制設備應符合新設製程之排放標準。
但本標準發布施行日前已設立之污染防制設備仍適用既存製程之排放標準。
第一項單一空氣污染物之單位小時許可排放量小於Ο．六公斤／小時者，其個別排放管道適用之排放標準，應報經地方主管機關核可；單一空氣污染物之單位小時許可排放量達Ο．六公斤／小時之光電業應以處理效率為排放標準。
但同一公私場所之單一空氣污染物經二個以上排放管道排放時，排放量較小或僅含模組（module）製程廢氣之排放管道，報經地方主管機關核可者，得以管道排放量為適用之排放標準。
││├─────────┼────────────────┤││既存製程│處理效率應達百分之七十五或管道排││││放量Ο．四公斤／小時以下（以甲烷││││為計算基準）。
│├───┼─────────┼────────────────┤│氫氟酸│污染防制設備前端廢│處理效率應達百分之八十五或管道排│││氣濃度三ppm以上者│放量Ο．一公斤／小時以下││├─────────┼────────────────┤││污染防制設備前端廢│處理效率應達百分之七十五或管道排│││氣濃度小於三ppm者│放量Ο．一公斤／小時以下│├───┼─────────┼────────────────┤│鹽酸│污染防制設備前端廢│處理效率應達百分之八十五或管道排│││氣濃度三ppm以上者│放量Ο．二公斤／小時以下││├─────────┼────────────────┤││污染防制設備前端廢│處理效率應達百分之七十五或管道排│││氣濃度小於三ppm者│放量Ο．二公斤／小時以下│└───┴─────────┴────────────────┘光電業符合固定污染源設置與操作許可證管理辦法第三條規定之變更條件者，其新增之污染防制設備應符合新設製程之排放標準。
但本標準發布施行日前已設立之污染防制設備仍適用既存製程之排放標準。
第一項單一空氣污染物之單位小時許可排放量小於Ο．六公斤／小時者，其個別排放管道適用之排放標準，應報經地方主管機關核可；單一空氣污染物之單位小時許可排放量達Ο．六公斤／小時之光電業應以處理效率為排放標準。
但同一公私場所之單一空氣污染物經二個以上排放管道排放時，排放量較小或僅含模組（module）製程廢氣之排放管道，報經地方主管機關核可者，得以管道排放量為適用之排放標準。